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真空镀膜的三种形式及优缺点对比

真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.(也是金属反射膜的三种镀膜方式)

1、蒸发镀膜(evaporation):通过在真空中加热蒸发某种物质使其产生金属蒸气沉积(凝聚)在固体表面成为薄膜,蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关.

蒸发源1:电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd

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